多晶硅清洗机
一、硅料的碱洗
在生产太阳能单晶多晶硅片过程中，都会产生晶棒的头尾边皮和切割后的残余。其表面在加工过程中残留了切割液、金属离子、指纹和附带杂质等。
1、通常是把部分料在回用过程中需通过碱洗，从产生至清洗回用这个过程中要注意三个事项：
A.残余料产生到清洗时间尽量要短;
B.硅料尽量浸入溶液，不要裸露在空气中;
C.操作过程中应避免指纹留在硅料上。
2、清洗过程：
超声碱洗→超声漂洗→超声漂洗
3、清洗工艺：(一般情况)
清洗槽 溶液 时间 温度 超声功率
超声碱洗 碱+ID 20min 60℃～80℃ 20w/升
超声漂洗 ID 20min 常温 20w/升
超声漂洗 ID 20min 常温 20w/升
4、清洗的头尾边料：
碱洗中主要清洗目的是去掉切割液和附带物等杂质。切割下来的料放置时间过久会增加切割液和杂质的附着力，比如用完餐的碟子上的油脂，凝固了以后清洗时间会延长，清洗难度也增加了。如果时间过长、温度不宜或环境不好还会造成氧化等化学反应，就像日常用的水龙头，经常擦洗会一直光亮，长时间不擦洗，被氧化成花纹等不良后果，很难恢复到以前的样子。关于指纹的清洗工艺更难，原因有二：1、每个人分泌的手汗不同;2、每个人手指接触的地方不同。指纹带来的杂质比较复杂，有酸性、有碱性、有油性，并且这些杂质会在料表面产生物理和化学反应。我们对清洗没有指纹的硅料，用一种通用工艺就可以处理的。因此在清洗行业里指纹是最难清洗的一种杂质，要处理长时间裸放的硅料我们的工艺要增加浸泡槽，使杂质的附着力柔化。
对有裂纹的硅料和坩底料的碱洗尽量要让纹路裂开，因为杂质或氧化物在裂纹里很难清洗干净。如果没有氧化物在碱洗过程中碱液也会侵入到裂纹里，从而漂洗工艺里增加了难度。
5、清洗碎片料：
在切割、脱胶和清洗等过程中产生的碎片，通常是放在单槽或多槽超声波中清洗。此方面存在的问题在于碎片有两个平面，它们容易粘合。在粘合处的杂质、油污很难被清洗出来。通过人工来处理一方面劳动强度大，另一方面硅片会更碎，更难处理。我们介绍的方法是把碎片放入一个特定篮筐内，让其在溶液中翻转，利用溶液浮力和篮筐的翻转让硅片在溶液中漂浮，从而达到分离，完全清洗干净粘合面的杂质和油污。
要清洗干净一种硅料首先要分析硅料的种类，继而选择适合的工艺和方法。没有洗不干净的料只有不正确的洗料方法。对症下药才能事半功倍。
三、硅料的酸洗
在生产单晶棒和多晶块时，使用的硅料的纯度须达到99.9999%以上。酸洗的目的主要是去除金属离子和氧化皮，原生多晶主要是在炸料时产生，头尾埚底及碎片主要是在切割时等情况产生。
1、酸洗方法：
A、原生多晶在生产厂家经过清洗处理原则上不需要再进行酸洗，对一些包装损坏或有疑惑的硅料依据情况选择酸洗方式。一般采用柠檬酸或氢氟酸处理即可，若表面有氧化现象的采用混合酸洗;
B、头尾、埚底和碎片料，铸多晶时可以采用单酸洗，拉单晶时必须采用混合酸洗;
C、小颗粒和碎片料在酸洗时一定要多翻动，使其充分反应。
2、酸洗工艺：
A、根据不同硅料的情况配置相应的混合酸比例及选择酸的种类;
B、 酸反应→纯水漂洗→纯水冲洗(酸洗到漂洗要注意控制时间避免氧化)
3、酸洗设备：
现今一般企业都采用二槽式手动酸洗产品：即酸槽、水槽另加冲水槽。此设备适用于普通大块硅料清洗，对小颗粒和碎片硅料清洗有一定难度。再者对操作人员要求相对较高，酸雾和酸液对操作人员的危害系数增多。考虑安全生产和为了保证产品清洁度，在此设备上做了三项工艺改进：
A、在人员安全方面：采用了传动方式将工件篮放置在升降机构上，自动下降至酸槽，可避免酸液和酸雾对操作人员造成的伤害。处理时间可以定时，到时自动升起。
B、在酸雾处理方面：常规办法是顶部吸风，致使酸雾在上升过程中易膨胀，泄漏到车间。采用槽体侧吸风方法，在酸雾刚产生时就进行吸雾处理，顶部吸风和后吸风加强，空气对流避免酸雾往前泄漏;
C、在均匀清洗硅料方面：在升降机构上设计一个翻转动作，硅料一进入槽体即开始翻转动作，硅料便在酸液中滚动从而达到均匀清洗的目的。在设定的时间内完成清洗，翻转停止，工件篮升出酸液;
D、在纯水漂洗槽内具有同样自动升降和翻转功能，达到无死角漂洗目的。
四、硅料的超声漂洗：
1、在硅料酸洗后，虽然经过了漂洗和冲洗，但在硅料的表面或缝隙等仍有可能残留酸。如果直接干燥，残留酸会对硅料进行氧化，因此还需在酸洗后进行超声漂洗。
2、现在一般厂家采用酸洗后经过二级超声漂洗后，烘干、包装，还有一种是在超声漂洗后，再在ID水中养一段时间后烘干、包装。实际上这些工序要分清硅料的种类和生产车间的环境等因素而定。对一些相对较大的硅料是可以的，但是硅料不能在酸洗车间停留使其被酸雾污染。
3、若想达到更好的达到超声漂洗的目的：(1)、相对大的硅料采用纯水二级反溢流;(2)、小颗粒料和片料采用纯水三级反溢流，硅料最好要翻动;(3)、超声清洗和酸洗需要隔离;(4)、避免使金属与硅料直接接触产生金属离子转移;(5)、对在同一台设备中完成酸洗、超声漂洗、干燥的设备，其吸风系统必须选用优良系统。
